မြင့်မားသော uniformity: Ultrasonic မှုတ်လိမ်းခြင်းသည်မြင့်မားသောစွမ်းဆောင်ရည်မြင့်စက်မှုဇုန်အဆင့်တိကျသောပက်ဖြန်းသည့်နည်းပညာဖြစ်သည်။ အလွန်သေးငယ်သော sub-micron နှင့် nano-scale ပါးလွှာသောမျက်နှာပြင်အဖုံးများကိုအသုံးပြုသည်။
ပစ္စည်းချွေတာခြင်းနှင့်ပတ် ၀ န်းကျင်ကာကွယ်ခြင်း - ဖိအားမပါဘဲမြန်နှုန်းနိမ့်မှုန်ရေမွှားသည်ထိန်းချုပ်ရန်လွယ်ကူပြီးအနိမ့်အနိမ့်မျက်နှာပြင်မှပြန်ခုန်ထွက်သွားမည့်အစားအစက်အပြောက်များကျသည်။ နှင့်သဘာဝပတ်ဝန်းကျင်ထုတ်လွှတ်မှုလျှော့ချ။ Ultrasonic မှုတ်လိမ်းသည့်အပေါ်ယံလွှာအသုံးပြုမှုနှုန်းသည်သမားရိုးကျ Two-fluid ပက်ဖြန်းမှုထက် ၄ ဆကျော်ပိုများသည်။
မြင့်မားသောထိန်းချုပ်နိုင်မှု - အလွန်နိမ့်သောစီးဆင်းနှုန်းကိုလိုအပ်သောအခါ nozzle သည်အလိုအပ်ဆုံးဖြစ်သည်။ ပက်ဖြန်းမှုန်ကိုဆိုင်းငံ့လိုက်သောအခါ၎င်းတို့တွင်ထူးခြားသောအားသာချက်များရှိသည်။ nozzle ကိုယ်နှိုက်၏ ultrasonic အကျိုးသက်ရောက်မှုမှတဆင့်, အမှုန်အလုပ်လုပ်တဲ့အမှုန်ပိုမိုပါးလွှာသောအလွှာတွင်ပြန့်နှံ့ဖြစ်ကြောင်းသေချာစေရန်တစ်ခုလုံးကိုပက်ဖြန်းခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်အတွင်းတစ်ပုံစံတည်းဆိုင်းငံ့ထားထားရှိမည်။
မြင့်မားသောစွမ်းဆောင်ရည်နှင့်စွမ်းအင်ချွေတာမှု - အရည်ကိုရေမှုန်ရေမွှားခေါင်းကို၎င်း၏ဆွဲငင်အား (သို့) ဖိအားနိမ့်ပန့်ဖြင့်လွှဲပြောင်းပေးပြီးစဉ်ဆက်မပြတ်သို့မဟုတ်ပြတ်တောင်းပြတ်တောင်းသောအက်တမ်ဓာတ်ပြုမှု၊ ပိတ်ဆို့ခြင်း၊ ဝတ်ဆင်မှု၊ ဆူညံသံ၊ ဖိအားမရှိ၊ ရွေ့လျားနေသောအစိတ်အပိုင်းများ၊ atomization နှင့်စွမ်းအင်သုံးစွဲမှုနည်းစဉ်အတွင်းပစ္စည်းကိရိယာများသည်ရိုးရှင်းပြီးပျက်ကွက်မှုနှုန်းနိမ့်သည်၊ ultrasonic nozzle တွင် self-clean လုပ်ဆောင်ချက်ရှိပြီးနေ့စဉ်ပြုပြင်ထိန်းသိမ်းမှုသည်အခမဲ့ဖြစ်သည်။
ကျယ်ကျယ်ပြန့်ပြန့်အသုံးပြုသော: Ultrasonic မှုတ်လိမ်းသောပစ္စည်းကိရိယာများကိုအဓိကအားဖြင့်လောင်စာဆဲလ်များ၊ ပါးလွှာသော photovoltaic ဆဲလ်များ၊ ပါးလွှာသောဆိုလာပြားများ၊ perovskite နေရောင်ခြည်စွမ်းအင်သုံးဆဲလ်များ၊ နေရောင်ခြည်စွမ်းအင်သုံးဆဲလ်များ၊ graphene ကုတ်အင်္ကျီများ၊ silicon photovoltaic ဆဲလ်များ၊ ဖန်ထည်များ၊ အဆိုပါ nozzle ဖြေရှင်းချက်အမျိုးမျိုး, မိလ္လာ, ဓာတုအရည်များနှင့်အဆီပြန်အရည်ကိုလည်းအက်တမ်နိုင်ပါသည်။
